BH200

採用平場消色差光學系統和落射式柯拉照明系統,同時在落射照明系統中設計防反射結構,有效防止反射光干擾成像光線,從而使成像更清晰、視場襯度更好。

提供穩定可靠的操作機構,使成像更清晰,操作更簡便。

顯微鏡鏡體採用全新的人機工程學設計,結構勻稱,實現鏡體擴展積木化。

 

工作臺、光強與粗微調的低位操作,提高了使用的舒適性。

 

廣泛應用於各類半導體矽晶片檢測、材料科學研究、地質礦物分析及精密工程等學科領域。